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全球化学机械研磨液市场与厂商动态分析行业评述行业资讯资讯电子磅
发布时间:2022-10-13 12:33:56
来源:敏法机械网
2005年全球化学机械研磨液市场规模达5.67亿美元,较2004年仅成长3.4%,与2004年之成长率24.3%相较趋缓许多,分析成长趋缓因素有二:一是半导体市场成长趋缓,2005年全球半导体市场仅成长6.8%;二是竞争厂商增加,日本、我国台湾厂商为扩大市场占有率,在铜制程高阶产品引发降价。因此即全球使用量较由2004年94,300吨成长至2005年111,280吨,成长率高达18%,但是金额仅成长3.4%。预估2006年全球半导体市场成长8.0%,化学机械研磨液使用量成长3.6%,金额在高阶制程TaN Barrier Layer进入成长阶段,预计成长8.8%,2007、2008年持续成长趋势。
Cabot为全球最主要供货商,产品系列齐全,尤其在钨金属制程产品市占率最高,地位也最为稳固;Fujimi与Rohm&Haas在氧化层制程产品上表现较好,一般日系半导体厂商多使用Fujimi的产品,美系及欧系厂商多使用Rohm&Haas产品,除了DRAM半导体氧化层制程,在硅晶圆材料抛光方面,也是Fujimi与Rohm&Haas的主要目标市场,JSR专注铜制程产品,台积电、Toshiba已少量在使用,TaN阻障层也以JSR、Rohm&Haas为主要供货商;我国台湾厂商长兴化工主力放在铜制程研磨液市场,近一两年也开始打入全球市场。化学机械研磨液领域近年来加入者众,面对日本厂商的侵蚀,产品价格下降,厂商竞争越来越辛苦,日本厂商的竞争力不容忽视,但目前仍以Cabot主宰CMP研磨液市场。
(源自:ITIS)
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